酸性化学品供应控制系统
[技术领域]
本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体地说是一种酸性化学品供应控制系
统。
由于半导体行业中芯片生产线的工作对象是硅晶片，而能在硅晶片上蚀刻图形 以及清洗硅晶片上的杂质、微粒子的化学品大多是酸碱性溶液或气体，如氢氟酸、硫酸等, 酸碱性化学品供应系统则是负责向化学品用户端供应酸碱性化学品的系统。因此,酸碱性 化学品供应系统是半导体行业中芯片厂化学品系统中最重要的系统之一。
酸性化学品供应控制系统作为酸碱化学品供应系统的种类之一，不仅是一个基础 系统，也是一个非常重要的系统，主要负责为整个厂区提供必要的酸性化学品，如具有腐蚀 性的化学品:H2S04, HCK HN03, HF, H30P4等，以及具有毒性的化学品：HF、HN03、Poly-Mix、 BOE等,其主要的操作过程是使用酸桶大量地接收化学品，并集中保存在供应槽中，再通过 管道将供应槽中的酸性化学品供应到需要使用此化学品的客户端设备使用。根据目前现有 技术所使用的情况，由于无法自动判断酸桶是否需要更换以及供应槽中化学品的量是否适 当，给整个酸性化学品供应体系的操作带来了困难，并且，对于具有腐蚀性和毒性的酸性化 学品而言，如果此类问题不加以正确处理，带来的不仅是生产上的损失，还有人身安全的 威胁。因此，如何能够在最少的人工操作的前提下，使得酸性化学品供应系统稳定安全地自 动运行，是目前本行业急需解决的问题。
[实用新型内容]
本实用新型的目的就是要解决上述的不足而提供一种酸性化学品供应控制系统, 能够自动判断酸桶是否需要更换以及供应槽中化学品的量是否适当，实现了最少的人工操 作前提下，使得酸性化学品供应系统稳定、安全地自动运行。
为实现上述目的设计一种酸性化学品供应控制系统，包括酸桶系统和供应槽系 统,所述酸桶系统管道连接供应槽系统，所述供应槽系统管道连接化学品用户端9,所述酸 桶系统包括酸桶1,所述供应槽系统包括供应槽2、传感器3、泵4和气动阀5,所述酸桶1、供 应槽2、传感器3、泵4和气动阀5通过PLC6连接。
所述供应槽系统还包括警报装置7,所述警报装置7通过PLC6连接酸桶1、供应槽
2、传感器3、泵4和气动阀5o
所述供应槽2上设有最低点和最高点，所述供应槽2上最低点和最高点处分别设
所述供应槽系统中设有触摸屏8,所述触摸屏8通过PLC6连接酸桶1、供应槽2、传 感器3、泵4、气动阀5和警报装置7。
本实用新型同现有技术相比，结构新颖、简单，由于通过PLC控制酸性化学品供应 控制系统中的气动阀和泵，以及在供应槽上设有最低点和最高点，并在该最低点和最高点 处分别设有液位传感器，从而能够自动判断酸桶是否需要更换以及自动判断供应槽中化学 品的量是否适当，实现了以最少的人工操作为前提，使得酸性化学品供应控制系统稳定、安 全地自动运行；而且,本实用新型所述的酸性化学品供应控制系统中还设有报警装置，并将 该报警系统通过PLC连接酸桶和供应槽，从而能够及时发现问题并解决，保证了该酸性化 学品供应控制系统长期稳定地运行，且运行非常安全、可靠，避免了生产上的诸多损失，也 保障了现场操作人员的人身安全。
本实用新型包括：酸桶系统和供应槽系统，所述酸桶系统管道连接供 应槽系统，所述供应槽系统管道连接化学品用户端9,所述酸桶系统包括酸桶1,所述供应 槽系统包括供应槽2、传感器3、泵4和气动阀5,所述酸桶1、供应槽2、传感器3、泵4和气 动阀5通过PLC6连接，所述供应槽系统还包括警报装置7,所述警报装置7通过PLC6连接 酸桶1、供应槽2、传感器3、泵4和气动阀5,所述供应槽2上设有最低点和最高点,所述供 应槽2上最低点和最高点处分别设有液位传感器，所述液位传感器通过PLC6连接警报装置 7,所述供应槽系统中设有触摸屏8,所述触摸屏8通过PLC6连接酸桶1、供应槽2、传感器 3、泵4、气动阀5和警报装置7。
本实用新型主要的目的是使用酸桶大量地接收化学品，并集中保存在供应槽中， 然后通过管道供应到化学品用户端。酸桶系统主要是使用200L酸桶大批量将化学品输送 到供应槽，供应槽系统则根据化学品用户端的要酸情况，通过管道将化学品输送到相应设 备。使用时，将200L酸桶放置到机台的内部，连接好相应的接头，然后PLC程序自动运行， 当供应槽中的化学品位置低于最低点时，则供应槽向酸桶索要酸性化学品，酸桶开始传送, 供应槽从酸桶处接受酸性化学品；当供应槽中的化学品位置高于最高点时,则不再索要酸 性化学品，即传送结束；当酸桶中的化学品不足时，则通过报警装置提示操作人员做好相应 的换酸桶操作。
本实用新型并不受上述实施方式的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实 质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用 新型的保护范围之内。
