等离子表面处理设备去胶

等离子表面处理机去胶法，除胶气体为氧气。该方法通过将电路板置于真空反应系统中，通入少量氧气，再加上高频高压，由高频信号发生器产生高频信号，在石英管中形成较强的电磁场，将氧离子化，形成氧离子、活化氧原子、氧分子和电子等混合物质的辉光柱。活性氧(活性原子态氧)能快速将残留的胶氧化为挥发性气体，并进行挥发带走。

电路板上面的残留物被抽走后，电路板就会清洗干净了。等离子表面处理机去胶的优点是去胶操作简单，去胶效率高，表面清洁光洁，无划痕，成本低，环保。等离子表面处理机去胶机加工是微细加工的重要环节，在电子束曝光、紫外曝光等微细纳米加工后，都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。去除了光刻胶的干净程度对样品是否存在损坏等问题，将直接影响后续工艺的顺利实施。