半导体行业的有毒废气主要来源于晶体外延、干法刻蚀及CVD等工序中，在这些工序中要使用到多种高纯特殊气体对晶片进行处理，如硅烷( SiH4) 、磷烷(PH3 ) 、四氟化碳( CF4 ) 、硼烷、三氯化硼等，部分特殊气体具有毒害性、窒息性及腐蚀性。磷烷，毒性很强，此种废气必须经过处理之后才能排放。那么，磷烷废气怎么处理？格林斯达环保公司告诉您磷烷废气应急处理方法介绍如下：

磷烷废气处理方法

磷烷废气可用水、高锰酸钾溶液、高锰酸钾和苛性碱混合溶液、氯化铁溶液、次溴酸钠溶液等来吸收或冲洗。也可用活性碳等吸附剂吸附，或用臭氧氧化成低毒物或者在严格控制下燃烧后排放。常见的磷烷废气处理方法如下：

吸收法

现有技术中常采用高锰酸钾溶液处理含磷烷的废气，将高锰酸钾溶液自上而下喷淋与含磷烷的废气在喷淋塔内接触吸收，采用高锰酸钾氧化法处理含砷废气。s先把高锰酸钾溶液装入二级过滤装置中，把气体通入高锰酸钾溶液内进行反应产生的结晶通过排污口排出，防止产生的结晶物堵塞喷淋系统，且废气从高锰酸钾溶液内经过使废气与溶液充分接触反应，使净化效果更好；其次通过二级过滤装置的高锰酸钾溶液吸收后，再通过三级过滤装置喷淋碱液再次吸收，z后通入卧式过滤罐内通过加热棒加热把把残留的废气完全吸收在排放出去，使磷烷尾气净化效果更好。

吸附法

半导体行业的磷烷废气从机台端单独收集，通过干式吸附装置进行吸附后达标排放。

燃烧法

电子工业中往往使用含磷烷气体做掺杂气体，由气体生产工厂混合成磷烷浓度为5%的混合气体，在充装前需要对残余气体进行处理置换，由于磷烷气体属于剧毒品，排放需小于0.3mg/m3，工业上通常对磷烷采用燃烧法进行废气处理。

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